半導體工業(yè)是極精密的工業(yè)，當我們把計算機拆開之后，在電路板上一顆顆小小的IC都有數(shù)百萬顆甚至數(shù)千萬顆的晶體管。為了讓這些極小的晶體管妥善的工作，制造的過程必須在無塵室內進行，集成電路制造的工廠動輒需要數(shù)十億、數(shù)百億的投資，多因為需要一個無塵室。
所謂的無塵室是一個人造的環(huán)境，里面含有的粒子遠低于一般的環(huán)境，隨著集成電路技術的快速成長，也增加了對制造環(huán)境（無塵室）潔靜度的需求，在工業(yè)上即使粒子之尺寸小于1微米，也可能阻礙產品的運作或降低其壽命。
由于奈米技術的興起，造成半導體關鍵尺寸持續(xù)縮小，集成電路積集度不斷的增加，塵粒更容易使芯片失效或可靠度惡化。例如當金屬塵粒地落到金屬導線時，就可能會使金屬導線形成短路。又如果有酸性的離子化合物塵粒掉在金屬導線上，可能將其腐蝕，所以無塵室為集成電路制造不可或缺的要素。
依據(jù)美國聯(lián)邦政府頒布的標準【Federal Standard （FS） 209E, 1992】，可將無塵室分為六級。分別是1級、10級、100級、1000級、10000級、100000級，如果無塵室的等級只用塵粒數(shù)目來敘述，則可假設塵粒的尺寸為0.5?m，例如，1級、10級、100級無塵室最大塵粒數(shù)目分別小于或等于1顆、10顆、100顆，如果塵粒尺寸不是0.5?m，無塵室等級應以在一特定塵粒尺寸的級數(shù)來表示。例如：10級在0.2?m（塵粒尺寸在0.2?m或更大下，密度不大于75顆/立方英?），1級在0.1?m（塵粒尺寸在0.1?m或更大下，密度不大于35顆/立方英）。而集成電路制造所需的無塵室之潔凈度必須優(yōu)于1000級。
為保持無塵室的潔凈度，進出的人員有一定的穿著規(guī)定；10000與100000級，必須穿著長袍無塵衣、無塵鞋、帶帽子與面罩；1000級（含）以上，需穿著特殊的潔凈連身衣、無塵鞋將全身裹住，并帶上手套和面罩，下表為無塵室清潔度的
定義：
塵粒數(shù)／立方英
級數(shù) 0.1μm 0.2μm 0.3μm 0.4μm 0.5μm
1 35 7.5 3 1 N/A
10 350 75 30 10 N/A
100 N/A 750 300 100 N/A
1000 N/A N/A N/A 1000 7
10000 N/A N/A N/A 10000 70
100000 N/A N/A N/A 100000 700
所謂的無塵室是一個人造的環(huán)境，里面含有的粒子遠低于一般的環(huán)境，隨著集成電路技術的快速成長，也增加了對制造環(huán)境（無塵室）潔靜度的需求，在工業(yè)上即使粒子之尺寸小于1微米，也可能阻礙產品的運作或降低其壽命。
由于奈米技術的興起，造成半導體關鍵尺寸持續(xù)縮小，集成電路積集度不斷的增加，塵粒更容易使芯片失效或可靠度惡化。例如當金屬塵粒地落到金屬導線時，就可能會使金屬導線形成短路。又如果有酸性的離子化合物塵粒掉在金屬導線上，可能將其腐蝕，所以無塵室為集成電路制造不可或缺的要素。
依據(jù)美國聯(lián)邦政府頒布的標準【Federal Standard （FS） 209E, 1992】，可將無塵室分為六級。分別是1級、10級、100級、1000級、10000級、100000級，如果無塵室的等級只用塵粒數(shù)目來敘述，則可假設塵粒的尺寸為0.5?m，例如，1級、10級、100級無塵室最大塵粒數(shù)目分別小于或等于1顆、10顆、100顆，如果塵粒尺寸不是0.5?m，無塵室等級應以在一特定塵粒尺寸的級數(shù)來表示。例如：10級在0.2?m（塵粒尺寸在0.2?m或更大下，密度不大于75顆/立方英?），1級在0.1?m（塵粒尺寸在0.1?m或更大下，密度不大于35顆/立方英）。而集成電路制造所需的無塵室之潔凈度必須優(yōu)于1000級。
為保持無塵室的潔凈度，進出的人員有一定的穿著規(guī)定；10000與100000級，必須穿著長袍無塵衣、無塵鞋、帶帽子與面罩；1000級（含）以上，需穿著特殊的潔凈連身衣、無塵鞋將全身裹住，并帶上手套和面罩，下表為無塵室清潔度的
定義：
塵粒數(shù)／立方英
級數(shù) 0.1μm 0.2μm 0.3μm 0.4μm 0.5μm
1 35 7.5 3 1 N/A
10 350 75 30 10 N/A
100 N/A 750 300 100 N/A
1000 N/A N/A N/A 1000 7
10000 N/A N/A N/A 10000 70
100000 N/A N/A N/A 100000 700